- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
真空旋轉(zhuǎn)涂層機
- 型號:
- VTC-100
- 產(chǎn)品概述:
- VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機具有操作簡單、清理方便,體積小巧等優(yōu)點,主要應(yīng)用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。設(shè)備標(biāo)配3個不同大小的真空吸盤,可根據(jù)樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤。VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上,該設(shè)備利用兩段程序控制速度。首先開動涂膜機將設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)設(shè)置在一定的轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi),在此轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi)設(shè)置一定的注膠時間對樣品進行注膠,注膠結(jié)束后涂膜機會提升轉(zhuǎn)數(shù)至第二段的極限轉(zhuǎn)數(shù)進行勻膠,在勻膠之前要對勻膠時間進行設(shè)置,當(dāng)勻膠時間結(jié)束后機器自動停止運轉(zhuǎn),涂膜的整個過程結(jié)束。VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機利用高速旋轉(zhuǎn)使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
設(shè)備名稱
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真空旋轉(zhuǎn)涂層機—VTC-100 (2019.12.27—科晶實驗室審核) |
產(chǎn)品提示
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1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?/strong> 4、配件妥善保管提示 |
產(chǎn)品特點
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1、采用二段程序控制速度,在第一段低速階段進行注膠,在第二段高速階段進行勻膠。 2、真空吸附方式固定樣件,操作簡便,取放樣品方便。 3、采用鑄鋁結(jié)構(gòu),運行穩(wěn)定、噪音低。 4、采用了電機與控制電源分別有單獨的電源供電 5、調(diào)速采用抗干擾性高的單片機進行控制,轉(zhuǎn)速在1000-8000 RPM范圍內(nèi)非常穩(wěn)定。 6、 LED數(shù)字顯示 7、采用無油雙杠真空泵,體積小巧、結(jié)構(gòu)簡單、操作容易、維護方便、不會污染環(huán)境等優(yōu)點。 |
相關(guān)視頻
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操作視頻 |
基本參數(shù)
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1、AC220/110V 50/60Hz 2、功率:150W 3、轉(zhuǎn)速:500-8000rpm 4、可設(shè)置兩步涂膜程序,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性為±1%,使涂膜更加均勻。 SPD1轉(zhuǎn)速:500-8000 RPM有效 T1 時間:1--60s有效 SPD2轉(zhuǎn)速:500-8000 RPM有效 T2 時間:1--60s有效 5、載樣盤直徑100mm,逆時針旋轉(zhuǎn)。 6、使用環(huán)境溫度5-40℃,相對濕度不大于85%RH, 設(shè)備周圍無強烈震源和腐蝕氣體。
更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部 |
產(chǎn)品規(guī)格
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尺寸:260mm×380mm×330mm; 重量:20kg |
安裝條件
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本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有進出水口。 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地。 3、氣:不需要 4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要 |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 真空吸盤 (聚丙烯,?25mm、?50mm、?100mm) | 各1個 |
2 | 滴液器 | 1個 |
3 | 無油真空泵 | 1臺 |
可選配件 | 1、特殊真空吸盤(聚四氟乙烯、鋁合金) 2、微型吸盤 3、過濾器(真空泵用) 4、進口移液器 5、國產(chǎn)移液槍 6、載樣卡盤 |
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