| 設(shè)備名稱型號(hào) | ·等離子清洗機(jī) PDC-36G/220V |
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| 特點(diǎn) | ·結(jié)構(gòu)緊湊，小型的桌面型儀器 ·用各種氣體清洗和去除晶片上納米級(jí)有機(jī)污染物 ·鉸鏈?zhǔn)介T，方便裝樣、取樣 ·清洗腔里面的石英管可以拆卸，方便清洗和更換 ·使用可調(diào)射頻電源，可以設(shè)置功率為低、中、高級(jí)別；低成本、操作安全 |
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| 基本參數(shù) | ·電源：AC 220V 50/60HZ ·功率：200W |
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| 結(jié)構(gòu) | ·腔體內(nèi)裝入一根尺寸為φ80*205mm的石英管，石英管內(nèi)可放入一個(gè)石英舟，最大可清洗2英寸的基片 ·腔門上安裝有一個(gè)不銹鋼三通，含有一個(gè)φ6.35的卡套接頭，做為進(jìn)氣口使用，一個(gè)不銹鋼針閥控制進(jìn)氣量，。一個(gè)不銹鋼三通球閥控制各通道的通斷。一個(gè)KF16的接口安裝了一個(gè)電阻規(guī)，電阻規(guī)信號(hào)線連接到電阻真空計(jì)上。設(shè)備背面的一個(gè)KF25接口與真空系統(tǒng)連接 ·腔體頂部有一φ35mm的石英觀察窗用于觀察腔室的反應(yīng)
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| 工作氣體 | ·許多惰性氣體都可以作為等離子清洗的氣體，如氮?dú)?、氬氣、空氣和混合氣體，選擇的氣體與清洗的材料相對(duì)應(yīng) ·等離子清洗不能使用易燃的氣體 |
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| 等離子直流電源 | ·輸入電壓:AC 220V 50HZ ·輸出頻率：13.56MHZ ·壓力范圍：1-1999Torr ·功率可調(diào)，分為低、中、高三個(gè)等級(jí)：
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| 電阻真空計(jì) | ·型號(hào)：ZDZ-52T ·顯示方式：LED數(shù)字顯示 ·測(cè)量范圍：1.0*105~1.0*10-1（Pa） ·準(zhǔn)確范圍：3.0*103~1.0*100（Pa） ·參考范圍：1.0*105~3.0*103（Pa） 1.0*100~1.0*10-1（Pa） ·功率：10W ·使用環(huán)境：溫度-10~50℃；濕度＜90%
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| 真空系統(tǒng)（選配） | ·型號(hào)：VRD-8 ·抽氣速率：2.2 L/S ·電機(jī)功率：370 W ·極限壓強(qiáng)：5×10-1Pa（不帶負(fù)載） ·實(shí)際壓強(qiáng)：≤5 Pa（帶上爐管和密封法蘭，冷態(tài)下機(jī)械泵抽20分鐘） ·如果想要獲得更高的真空度（10-5toor 或更高）可選購(gòu)國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口高真空機(jī)組
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| 設(shè)備外形尺寸 | ·350mm（L）*375mm（W）*400mm（H） |
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| 重量 | ·約9kg |
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| 質(zhì)保 | ·一年質(zhì)保期，終生維護(hù) ·特別提示： 1、耗材部分如加熱元件、石英管、樣品坩堝等不包含在內(nèi) 2、因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi) |
·科晶應(yīng)用技術(shù)實(shí)驗(yàn)室用此設(shè)備清洗基片，清除表面污染物，以供參考。
清洗前向基片上滴入0.05ml水滴，其結(jié)果如圖所示。通入氬氣清洗十分鐘后，向基片上滴入0.05ml水滴，其結(jié)果如圖所示。 | ||
石英 |
圖1 清洗前 |
圖2 清洗后 |
硅片 |
圖3 清洗前 |
圖4 清洗后 |
注意事項(xiàng) | ·腔室中不可以通入正壓 ·在真空狀態(tài)下不要打開(kāi)前級(jí)法蘭防止損壞玻璃室 ·如果清洗機(jī)腔室不能立即充氣，油會(huì)回流到腔室污染系統(tǒng)，故真空泵請(qǐng)安裝防回油裝置 ·此設(shè)備不建議使用有毒有害氣體。 |
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