| 參考文獻(xiàn) | 參考文獻(xiàn)：Design of refractory multi-principal-element alloys for high-temperature applications |
| 電源 | ·AC 208-240V 單相 50/60 Hz ·2KW（需要15A空氣開(kāi)關(guān)） |
| 爐體 | ·小型開(kāi)啟式爐體，氧化鋁纖維內(nèi)襯爐膛，雙層殼體結(jié)構(gòu) ·最高工作溫度1350℃ ·控溫精度：+/-0.1℃ ·一個(gè)位移顯示器安裝在設(shè)備上，精度為±1um ·爐體安裝在一個(gè)真空腔體內(nèi)，可氣氛控制
|
| 樣品固定裝置&樣品 | ·裝置采用再結(jié)晶裝置 ·固定裝置由2部分組成，用2個(gè)M18螺母擰緊 ·被測(cè)試樣品尺寸：Φ8mm×0.5mm ·選購(gòu)：可選購(gòu)CNC取樣器來(lái)制作樣品（圖5）
圖1 圖2 圖3 圖4 圖5 |
| 推壓棒 | ·推桿材質(zhì)為鉬（圖1） ·儀器上校準(zhǔn)連接器與推桿連接，確保對(duì)準(zhǔn)直徑為2.5mm的SiC底座（圖2）
圖1 圖2 |
| 加熱腔體&真空腔體 | · 特制MoSi2加熱元件，安裝保溫材料中 · 最高工作溫度： 1300℃（連續(xù)工作3個(gè)月） 1350℃（1 hr） · 加熱腔體固定在一個(gè)測(cè)開(kāi)門(mén)的真空腔體中 · 工作氣體：所有惰性氣體和氧氣，不可通入可燃性氣體 · 真空度：10-2Torr(采用機(jī)械泵），10-5Torr(采用分子泵） · 為達(dá)到更好的氣氛控制，可選購(gòu)本公司的氣體凈化系統(tǒng)（圖6）可將腔體內(nèi)的氧和水含量小于1PPM
圖1 圖2 圖3 圖4 圖5 圖6 |
| 溫控系統(tǒng) | ·采用PID方式調(diào)節(jié)溫度，帶有超溫保護(hù)和斷熱電偶保護(hù) ·控溫精度+/- 1 oC ·RS485 通訊接口 ·設(shè)備中包含PC控制軟件和界面模塊 |
| 控制界面 | ·一個(gè)筆記本電腦安裝有控制軟件。一個(gè)電腦可同時(shí)控制4臺(tái)設(shè)備 ·設(shè)備中包含軟件和電腦 ·電腦中顯示和讀取在設(shè)定的溫度和力情況下的位移和時(shí)間曲線（如下圖）
|
| 設(shè)備尺寸 |
|
| 質(zhì)保 | ·一年質(zhì)保期，終身維護(hù)（不包含損耗件，如推壓桿，加熱元件，固定模具等） |
Copyright © 2019 合肥科晶材料技術(shù)有限公司 版權(quán)所有 皖I(lǐng)CP備09007391號(hào)-1 
皖公網(wǎng)安備 34012302000974號(hào)
查看誠(chéng)信檔案
