- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
氟化鋰(LiF)晶體基片
- 產(chǎn)品概述:
- 氟化鋰廣泛應(yīng)用于紫外窗口,棱鏡等領(lǐng)域。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
技術(shù)參數(shù)
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晶體結(jié)構(gòu): | 立方 | 晶格常數(shù): | 4.026 | 熔點(diǎn)(oC): | 870 | 密度(g/cm3): | 2.60 | 硬度: | 4 | 熱膨脹系數(shù)(oC-1x 10-6): | 37.0 | 折射率: | no= 1.39212 | 透過(guò)波段 (microns): | 0.11 - 7.0 | 透過(guò)率: | > 85% @ 5 um > 65% @ 0.2 um | 色彩離差(hf-hc): | 0.00395 | 溫度系數(shù)( dh / dt x 10-6 ): | -12.7 @ 0.6 m | 晶體生長(zhǎng)方法: | Bridgeman |
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產(chǎn)品規(guī)格
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常規(guī)晶向:<100>、<110>、<111>; 常規(guī)尺寸:5x5x0.5mm、10x5x0.5mm、10x10x0.5mm; 拋光情況:單拋、雙拋; 表面粗糙度Ra:<15A 注:可按客戶要求定制方向和尺寸。 |
標(biāo)準(zhǔn)包裝
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1000級(jí)超凈室100級(jí)超凈袋包裝 |
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