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氟化鑭(LaF3)晶體基片
產品概述：
氟化鑭廣泛應用于紅外窗口和紫外窗口，棱鏡基片。
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產品名稱

LaF3晶體基片
技術參數

晶體結構：                

三方晶系

晶格常數：

 a=7.190 ?   c=7.367 ?

純度：

99.99%

密度：

5.936 g/cm3

硬度：

4.5 Mohs

熔點：

1493℃

生長方向：

<0001>

熱膨脹系數：

11.9  x10-6/ K // c  15.8  x10-6/ K // a   

熱導率：

5.1 W / m.k @ 300K

光傳輸范圍：

Up to 10.5 micron wavelength 折射率 no : 1.63   ne: 1.597  

生長方法：

提拉法
產品規(guī)格

常規(guī)晶向：                

<10-10>、<11-20>、<0001>                          

常規(guī)尺寸：

10x10x0.5mm

拋光情況：

單拋、雙拋
標準包裝

1000級超凈室，100級超凈袋或單片盒封裝
晶體缺陷

人工生長單晶有可能存在晶體內部缺陷。
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