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2英寸高真空加熱臺
關(guān)鍵字：
最高溫度可達1000℃
型號：
HVHP-50
產(chǎn)品概述：
HVHP-50是一款高真空的加熱臺，其直徑為2英寸（50.8mm）.此產(chǎn)品設置主要是用作為加熱樣品臺，可選擇最高溫度為800℃或1000℃。用于DIY各種濺射儀或蒸鍍設備等等。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
加熱元件?& 輸入功率

·可選購2種加熱元件

 

·FeCrAl 合金絲: 最高溫度800oC ，功率400W

 

·鉬絲:最高溫度1000oC ，功率 800W  ( 必須在真空或惰性氣體保護環(huán)境下使用，不適用于CVD/ALD等相關(guān)應用中)

 

·輸入電壓:   0 - 35 VAC ，50/60Hz
加熱臺

·儲存：78 mm OD x 85 mm H   + .支撐桿 ( Φ10 mm  x 62 mm L )

 

·加熱均勻區(qū)：Φ51 mm （+/- 5oC）

 

·加熱速率: 5oC/min

 

·熱電偶: K 型      
溫控器

·可選購SCR溫度控制器

·30 段升降溫程序

·PID 方式調(diào)節(jié)溫度

·控溫精度：+/-1℃
尺寸

image.png
重量

·1kg
質(zhì)保期

·一年質(zhì)保期，終身維護
應用

可用與DIY各種設備，如下圖

  wps21.jpg  wps22.jpg  wps23.jpg wps24.jpg       wps25.jpg

         蒸鍍儀              冷壁CVD                   CSS爐             磁控濺射儀                 ALD系統(tǒng)
使用注意事項

·選用鉬絲作為加熱元件時，必須在真空或惰性氣體保護環(huán)境下使用，不適用于CVD/ALD等相關(guān)實驗中，以免反應氣體損壞鉬絲
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