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多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐
型號：
OTF-1200X-PLD
產(chǎn)品概述：
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設(shè)備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成?？膳c準分子激光器配合，進行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜，而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發(fā)。此款設(shè)備特別適合制作多元化合物薄膜。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
產(chǎn)品特點

可與準分子激光器配合進行PLD制膜

腔體內(nèi)部可安裝多塊靶材，進行多靶激光蒸發(fā)

腔體內(nèi)部靶材可旋轉(zhuǎn)

可對基片加熱（最高溫度可達1200℃）
加熱爐（對基片加熱

雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風冷系統(tǒng)，使殼體表面溫度小于60℃

加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金（表面涂有氧化鋯涂層）

最高工作溫度：1200℃

最大功率：1.2KW

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腔體

基片加熱腔體為高純石英材料

靶材蒸發(fā)腔體為不銹鋼材料

靶材蒸發(fā)腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，并且靶材可旋轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速：0-30rmp）

兩個腔體通過卡箍式法蘭連接（可點擊圖片查看詳細資料）

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真空系統(tǒng)（選配）

10-2Torr(采用機械泵)

10-5Torr(采用渦旋分子泵)

可在本公司購買各種真空泵

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窗口

采用藍寶石（Al2O3）

尺寸：Φ25*0.5mm

允許激光的入射角度為30°-90°

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壓力控制系統(tǒng)

一套壓力控制系統(tǒng)安裝在儀器的腔體上，可保證腔體內(nèi)部的氣壓恒定

與混氣系統(tǒng)配合使用，可保證蒸發(fā)腔體中各種氣體的分壓恒定

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混氣系統(tǒng)

配有2路質(zhì)量流量計混合系統(tǒng)

混氣罐尺寸：Φ80X120mm

最大氣壓：3×106Pa

精度：±1%FS

質(zhì)量流量計量程：1:1-199sccm
           2:1-499sccm

可按客戶要求訂制其他量程的質(zhì)量流量計

可選購3-5路混氣系統(tǒng)

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等離子射頻電源（可選購）

可在設(shè)備上安裝300W等離子射頻電源，使腔體內(nèi)的氣體等離子化，達到等離子化激光蒸發(fā)反應(yīng)鍍膜

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質(zhì)保期

一年質(zhì)保期，終生維護（不包括密封圈、石英腔體和加熱元件）
儀器尺寸

1300mm*1260mm*820mm
質(zhì)量認證

若客戶出認證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認證或CAS認證

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