| 視頻 |
操作視頻 |
| 主要參數(shù) | ·工作環(huán)境：溫度 < 42°C，濕度 ≤ 40℃RH ·輸入電源：208 V- 240VAC, 50Hz, < 1000W ·等離子體工作壓力 |
| RF發(fā)生器 | · 輸出頻率：20-23kHz , 25KV ·等離子槍頭：儀器中包括兩種等離子槍頭：圓形頭：10-12mm，矩形頭：15-18mm |
| 輸入氣體氣壓，工作氣體 | ·40 PSI min.(0.055 Mpa) ·Air, N2, Ar, He 或混合氣體(不可通入易燃易爆氣體 ) |
| 樣品臺和控制柜 | ·配有可在X-Y軸移動的樣品臺，通過步進電機驅動，采用SBC控制盒控制 ·可手動調節(jié)樣品臺在Z軸方向上的移動距離 ·控制盒采用LCD顯示，可設置其等離子槍頭的掃描程序。 ·最大掃描范圍：8" x 9" ·一個直徑為4"的真空吸盤安裝在X-Y樣品臺上，可吸住直徑為6"的樣品。 ·配有一真空泵，可與真空吸盤相連接 ·整個系統(tǒng)安裝在一移動架上（600x600x 800Lmm） ·可選：可選加熱樣品臺（最高溫度可加熱到500℃),也可將設備放置在手套箱中操作。 |
| 外形尺寸 | ·處理樣品臺尺寸：560mm L x483mm W x 609mm H ·等離子源尺寸: 406mm L x 508mm W x 230mm H ·控制盒尺寸：330mm L x 305mm W x 152mm H |
| 凈重 | ·55kg |
| 認證 | 若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證。
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| 質保期 | 一年保修，終身技術支持。 特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內。2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。 |
| 文獻 | ·請點擊鏈接以了解更多關于AP-PECVD應用的信息：常壓等離子體增強化學氣相沉積（AP-PE-CVD）用于在低溫下生長薄膜。 |
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